https://www.aixtron.com/de/innovation/technologien/warmwand-planeten-prinzip
AIXTRON Technologien: Warmwand-Planeten-Prinzip (SiC-CVD) :: AIXTRON
Mit einer Konfiguration von bis zu 5x200 mm Wafern gehören diese Anlagen zu den größten CVD-Produktionsanlagen für Siliziumkarbid (SiC) weltweit.
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AIXTRON Technologien: Showerhead-Prinzip (MOCVD) :: AIXTRON
Beim Showerhead-Konzept werden prozessrelevante Gase durch wassergekühlte Oberflächen über der gesamten Beschichtungsfläche in den Reaktor eingelassen.
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AIXTRON Technologien: MOCVD :: AIXTRON
MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) ist eine Technologie, mit der ultradünne, einkristalline Schichten auf Halbleiter-Wafer aufgetragen werden.
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AIXTRON Technologien: Showerhead-Prinzip (MOCVD) :: AIXTRON
Beim Showerhead-Konzept werden prozessrelevante Gase durch wassergekühlte Oberflächen über der gesamten Beschichtungsfläche in den Reaktor eingelassen.
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